근거를 갖는 사람
결정에는 반드시 이유가 있어야 합니다. 관행이라서, 원래 그렇게 해 와서라는 답은 링크허브에서 통하지 않습니다. 왜 그렇게 했는지 설명할 수 있고, 더 나은 근거가 나오면 생각을 바꿀 수 있는 사람을 찾습니다.

인재상이라는 말은 대개 추상적으로 끝납니다. 열정 있는 사람, 도전하는 사람이라고 쓰면 반대할 사람이 없기 때문입니다. 링크허브는 그 대신 면접에서 실제로 확인하는 세 가지를 적기로 했습니다.
첫째는 자기가 한 일을 설명할 수 있는가입니다. 어떤 문제였고, 왜 그 방법을 골랐고, 다른 선택지는 무엇이었는지를 묻습니다. 결과가 좋았는지보다 그 판단의 근거를 갖고 있었는지를 봅니다. 잘 안 된 일을 설명할 때 남 탓을 하지 않는지도 함께 봅니다.
둘째는 모르는 것을 모른다고 말하는가입니다. 저희가 하는 일의 대부분은 처음 해 보는 일이라 아는 척은 곧 사고로 이어집니다. 면접에서 답을 모르는 질문이 나왔을 때 아는 데까지만 말하고 나머지는 모른다고 답하는 사람을 높게 봅니다.
셋째는 남의 일을 이해하려 하는가입니다. 개발자에게는 기획자가 왜 그런 요청을 했을지, 기획자에게는 개발자가 왜 어렵다고 했을지를 물어봅니다. 혼자 잘하는 사람보다 옆자리와 말이 통하는 사람이 결국 더 많은 것을 만들어 냅니다.
결정에는 반드시 이유가 있어야 합니다. 관행이라서, 원래 그렇게 해 와서라는 답은 링크허브에서 통하지 않습니다. 왜 그렇게 했는지 설명할 수 있고, 더 나은 근거가 나오면 생각을 바꿀 수 있는 사람을 찾습니다.
4,760만명이 쓰는 서비스에서 추측으로 내린 결정은 곧 장애가 됩니다. 아는 것과 모르는 것의 경계를 정확히 아는 사람, 확인하고 답하는 데 걸리는 시간을 아까워하지 않는 사람이 필요합니다.
혼자 만들 수 있는 서비스는 없습니다. 다른 직무의 어려움을 짐작해 보려는 태도, 자기 편의를 위해 남에게 부담을 넘기지 않는 태도를 봅니다.
말로 정한 것은 반드시 잊힙니다. 결정한 내용과 그 이유를 남기는 습관이 있는 사람은 팀의 속도를 몇 배로 만듭니다. 저희가 문서를 중요하게 보는 이유입니다.
내부 지표를 올리는 방법과 이용자에게 좋은 방법이 갈릴 때가 있습니다. 그때 후자를 고르자고 말할 수 있는 사람이 필요합니다.
시작은 쉽고 마무리는 어렵습니다. 남은 10% 를 처리하는 일을 지루해하지 않는 사람, 출시 후에 지표를 다시 열어 보는 사람을 찾습니다.

링크허브에는 지켜야 할 규칙이 많지 않습니다. 대신 기본값이 정해져 있습니다. 회의는 30분이 기본이고, 안건과 결정할 사항을 미리 적지 않으면 열지 않습니다. 문서는 공개가 기본이고, 비공개로 하려면 이유를 적어야 합니다.
직급은 있지만 호칭은 이름 뒤에 님을 붙이는 것으로 통일했습니다. 형식적인 평등을 위해서가 아니라, 직급이 높은 사람의 말이 자동으로 옳게 들리는 상황을 줄이기 위해서입니다. 의견이 갈리면 목소리가 큰 쪽이 아니라 데이터가 있는 쪽으로 갑니다. 데이터가 없으면 작게 실험해 보고 정합니다.
등급을 매기는 일보다 다음 6개월에 무엇을 할지 정하는 데 시간을 씁니다.
| 구분 | 주기 | 방식 | 쓰임 |
|---|---|---|---|
| 목표 설정 | 반기 1회 | 본인 작성 후 리더와 조정 | 다음 6개월의 우선순위 합의 |
| 중간 점검 | 월 1회 | 1대1 면담 30분 | 막힌 지점 해소 · 우선순위 재조정 |
| 동료 평가 | 반기 1회 | 함께 일한 4~6명 익명 서술 | 협업 방식에 대한 참고 의견 |
| 종합 평가 | 연 1회 | 리더 평가 + 동료 의견 종합 | 보상 및 승진 심사 |
| 리더 평가 | 연 1회 | 구성원이 리더를 익명 평가 | 리더 보직 유지 판단에 반영 |
1인당 연 300만원을 도서 · 강의 · 학회 참가에 자유롭게 씁니다. 사전 승인이 필요 없고 사후 영수증만 제출합니다.
격주 목요일 사내 발표회가 열립니다. 2025년에 48회 진행됐고 발표자는 전원 자발적 지원이었습니다.
1년 이상 근속하면 사내 공모를 통해 다른 직무나 조직으로 옮길 수 있습니다. 2025년에 186명이 이동했습니다.
오픈소스 기여와 기술 콘퍼런스 발표를 근무 시간에 할 수 있습니다. 논문 게재와 특허 출원에는 별도 포상이 있습니다.
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